江阴铝氧化_江阴铝模厂

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江阴堡垒江阴江华微电子材料有限公司申请了公开号CN117802502A,名称为“一种铜蚀刻液及其制备方法、蚀刻方法和应用”,申请日为2022年9月。专利摘要显示本发明公开了一种铜蚀刻液。蚀刻液包括主蚀刻剂和补充剂;主要蚀刻剂有双氧水、有机酸、有机碱、双氧水等。